Molecular Beam Epitaxy（MBE分子束外延）技術(shù)是50年代用真空蒸發(fā)技術(shù)制備半導體薄膜材料發(fā)展而來(lái)的。隨著(zhù)超高真空技術(shù)的發(fā)展而日趨完善，技術(shù)應用擴展到了半導體科學(xué)領(lǐng)域，目前世界上有許多國家和地區都在研究 MBE 技術(shù)在半導體芯片上的應用，包括美國、日本、英國、 法國、 德國和我國臺灣。
近年來(lái)隨著(zhù)我國科技進(jìn)步，產(chǎn)業(yè)升級，MBE技術(shù)應用在我國的發(fā)展也得到了極大的提升，我司注意到MBE液氮冷卻系統的需求，組織技術(shù)骨干攻堅克難，成功研發(fā)出MBE技術(shù)的專(zhuān)用MBE液氮冷卻系統，及配套真空管路系統，并成功用于多家企業(yè)、高校及科研院所。
